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23. 噪声、涨落和敏感度(Noise, Fluctuations, and Sensitivity)
本章讨论Sentaurus Device中的噪声分析、涨落分析和敏感度分析。
本章解释了Sentaurus Device的以下功能:建模噪声、掺杂、陷阱浓度、功函数、带隙、几何形状、介电常数、金属电导率的统计涨落,以及模型参数、掺杂和几何形状变化的敏感度。所有这些主题都涉及器件特性对小规模、器件内部变化的响应。对于噪声,这些变化在单个器件内随时间随机发生;对于统计涨落,这些变化是随机的器件间变化;而对于敏感度,这些变化由用户提供。尽管变化的性质不同,但它们都可以通过称为阻抗场方法的相同线性化方法来处理,因此Sentaurus Device将它们全部放在一个通用框架中处理。
[阻抗场方法的使用](第817页)解释了如何执行噪声、涨落和敏感度分析。[噪声源](第823页)讨论了Sentaurus Device提供的噪声和随机涨落模型。[统计阻抗场方法](第832页)描述了基于统计采样的随机掺杂涨落、陷阱浓度涨落、几何涨落和功函数涨落的建模方法。[确定性变化](第844页)讨论了用户提供的掺杂、几何和模型参数变化。[阻抗场方法](第849页)讨论了该方法的背景[1],[噪声输出数据](第850页)总结了可用于可视化的数据。
使用阻抗场方法
Sentaurus Device通过阻抗场方法以及小信号分析的扩展(见[小信号交流分析](第159页))来处理噪声分析、涨落分析和敏感度分析。
注意: 阻抗场方法不支持HeteroInterface选项(见[突变和缓变异质结](第60页))、Thermionic选项(见[热电子发射电流](第908页))或偶极层([偶极层](第250页))。
对于噪声和随机涨落,Sentaurus Device计算所选电路节点电压的方差和相关系数,假设这些节点的净电流是固定的。由于计算在频域中进行,因此计算的量称为噪声电压谱密度。Sentaurus Device还计算节点的电流方差和相关系数,假设电压是固定的;这些量是噪声电流谱密度。
对于统计阻抗场方法(sIFM)和确定性变化,Sentaurus Device计算节点电压的响应,假设电流是固定的,并计算节点电流的响应,假设电压是固定的。
指定变化
要使用噪声和随机涨落分析,在Sentaurus Device命令文件的Physics部分中,将微观偏差来源(称为局部噪声源,LNS)的物理模型指定为关键字Noise的选项:
bash
Physics {
...
Noise <string> ( <Noisemodels> )
}其中<Noisemodels>是指定任意数量噪声模型的列表见表326(第1753页)。字符串后给出的名称是可选的。使用具有不同名称的Noise规范允许你在单次仿真运行中研究不同的噪声规范。
对于sIFM,在全局Math部分和特定于器件的全局Physics部分中指定RandomizedVariation:
bash
Math {
RandomizedVariation <string> ( <specification> )
...
}
Device <string> {
Physics {
RandomizedVariation <string> ( <specification> )
}
}其中<specification>指定随机化的细节(见[统计阻抗场方法](第832页))。
对于确定性变化,在全局Physics部分中将变化指定为DeterministicVariation的选项:
bash
Physics {
DeterministicVariation( <variations> )
...
}其中<variations>是指定任意数量确定性变化的列表(见[确定性变化](第844页)和表296(第1732页))。
指定求解器
在任何情况下,使用ACCoupled语句的ObservationNode选项来指定需要噪声谱密度或偏差的器件节点。例如:
bash
ACCoupled (
StartFrequency = 1.e8 EndFrequency = 1.e11
NumberOfPoints = 7 decade
Node (n_source n_drain n_gate)
Exclude (v_drain v_gate)
ObservationNode (n_drain n_gate)
ACExtract = "mos"
NoisePlot = "mos"
){
poisson electron hole contact circuit
}关键字ObservationNode允许进行噪声和涨落分析(在本例中,针对节点n_drain和n_gate)。NoisePlot指定器件特定绘图的文件名前缀(见[噪声输出数据](第850页))。有关ACCoupled语句的更多信息,见[小信号交流分析](第159页)。
注意: 观察节点必须是Node(...)中指定的节点的子集。
零频率分析
可以在频率零处执行变化分析。如果在ACCoupled语句中指定单个频率零:
bash
StartFrequency = 0. EndFrequency = 0. NumberOfPoints = 1则激活此模式,与正频率分析相比,增强了分析和内存消耗的速度。
但是,你必须注意以下几点:
•
交流节点的电容无法提取,在输出文件中被设为零。
•
对于通用结构,只有电流格林函数(及其响应)是明确定义和计算的。电压格林函数及其相关响应无法计算。因此,默认情况下停用其计算,相应的输出数据被设为零。但是,如果结构的所有部分都是导电耦合的(而不仅仅是电容耦合),那么电压响应是明确定义的,可以通过在ACCoupled语句中指定VoltageGreenFunctions作为参数来显式激活其计算。
结果输出
分析的结果是噪声电压谱密度、噪声电流谱密度以及电压和电流偏差。它们出现在ACExtract文件中(见表144),在sIFM的情况下,还出现在单独的.csv文件中。单位是V²·s(电压谱密度)和A²·s(电流噪声谱密度)。如果在Noise之后指定的字符串不为空,则它会被加上前缀到ACExtract文件中谱密度的名称。
表144:写入ACExtract文件的噪声和涨落数据
| 名称 | 描述 |
|---|---|
| S_V | 自相关噪声电压谱密度(NVSD) |
| S_I | 自相关噪声电流谱密度(NISD) |
| S_V_ee | 电子NVSD |
| S_V_hh | 空穴NVSD |
| S_V_eeDiff | 由于扩散LNS的电子NVSD |
| S_V_hhDiff | 由于扩散LNS的空穴NVSD |
| S_V_eeMonoGR | 由于单极性GR LNS的电子NVSD |
| S_V_hhMonoGR | 由于单极性GR LNS的空穴NVSD |
| S_V_eeFlickerGR | 由于闪烁GR LNS的电子NVSD |
| S_V_hhFlickerGR | 由于闪烁GR LNS的空穴NVSD |
| S_V_BandEdge | 由于带隙涨落的NVSD和NISD |
噪声源
本节讨论可用于噪声和随机涨落建模的物理模型。
扩散噪声
扩散噪声是由载流子随机扩散运动引起的。电子和空穴的扩散噪声谱密度由下式给出:
其中是玻尔兹曼常数,是温度,是基本电荷,是流过节点的电流,是电流格林函数。
要激活扩散噪声,请在Physics部分中指定Noise:
bash
Physics {
Noise ( Diffusion )
}产生-复合(GR)噪声
产生-复合噪声是由载流子的随机产生和复合过程引起的。GR噪声谱密度为:
其中是载流子寿命,是产生率。
要激活GR噪声,请在Physics部分中指定Noise:
bash
Physics {
Noise ( SRH )
}闪烁噪声
闪烁噪声(1/f噪声)通常与陷阱捕获和释放载流子的随机过程有关。闪烁噪声谱密度为:
其中是取决于器件工艺的常数,通常约为1。
要激活闪烁噪声,请在Physics部分中指定Noise:
bash
Physics {
Noise ( Flicker )
}热噪声
热噪声(约翰逊-奈奎斯特噪声)是由导体中载流子的热运动引起的。热噪声谱密度为:
其中是电阻。
要激活热噪声,请在Physics部分中指定Noise:
bash
Physics {
Noise ( Thermal )
}统计阻抗场方法
统计阻抗场方法(sIFM)用于建模随机掺杂涨落、陷阱浓度涨落、几何涨落和功函数涨落。sIFM基于统计采样,其中每个样本代表具有不同随机变化配置的器件。
sIFM配置
要使用sIFM,在Math部分和Physics部分中指定RandomizedVariation:
bash
Math {
RandomizedVariation "doping" (
Type = Dopant
NumberOfSamples = 100
)
}
Physics {
RandomizedVariation "doping" (
Type = Dopant
DopingFluctuation = <float>
)
}sIFM参数
•
Type:随机化类型(Dopant、Trap、Geometry、Workfunction)
•
NumberOfSamples:要生成的样本数量
•
DopingFluctuation:掺杂涨落的幅度
sIFM分析
sIFM分析生成一组样本,每个样本代表具有不同随机变化配置的器件。然后对所有样本的响应进行平均,以获得对随机变化的平均响应。
确定性变化
确定性变化用于建模用户指定的变化,而不是随机变化。
指定确定性变化
要使用确定性变化,在Physics部分中指定DeterministicVariation:
bash
Physics {
DeterministicVariation (
DopingVariation = (region1, 0.1, 0.2)
GeometryVariation = (region2, 0.05)
)
}确定性变化参数
•
DopingVariation:掺杂变化(区域、变化幅度)
•
GeometryVariation:几何变化(区域、变化幅度)
•
ModelParameterVariation:模型参数变化(参数名、变化幅度)
阻抗场方法
阻抗场方法(IFM)是一种用于分析器件中噪声和涨落的强大技术。该方法基于格林函数,格林函数描述了器件中某一点的扰动如何影响另一点的响应。
IFM理论
对于频率处的噪声,电流响应由下式给出:
其中是格林函数,是局部扰动。
噪声谱密度为:
其中是噪声源相关函数。
IFM应用
IFM可用于计算:
•
器件终端的噪声电压谱密度
•
器件终端的噪声电流谱密度
•
噪声电流谱密度
•
随机涨落的方差和标准偏差
噪声输出数据
表145和表146总结了可用于可视化的噪声数据。
表145:器件噪声数据
| 关键字 | 描述 |
|---|---|
| S_V | 自相关噪声电压谱密度 |
| S_I | 自相关噪声电流谱密度 |
| S_V_ee | 电子噪声电压谱密度 |
| S_V_hh | 空穴噪声电压谱密度 |
| S_V_Diff | 扩散噪声电压谱密度 |
| S_V_GR | 产生-复合噪声电压谱密度 |
| S_V_Flicker | 闪烁噪声电压谱密度 |
表146:器件噪声数据(续)
| 关键字 | 描述 |
|---|---|
| PoHTReACGreenFunction | 的实部/虚部 |
| PoHTImACGreenFunction | 的虚部 |
| CurHTReACGreenFunction | 电流的实部/虚部 |
| CurHTImACGreenFunction | 电流的虚部 |
| PoLTReACGreenFunction | 的实部/虚部 |
| PoLTImACGreenFunction | 的虚部 |
| CurLTReACGreenFunction | 电流的实部/虚部 |
| CurLTImACGreenFunction | 电流的虚部 |
| PoPotReACGreenFunction | 的实部/虚部 |
| PoPotImACGreenFunction | 的虚部 |
| CurPotReACGreenFunction | 电流的实部/虚部 |
| CurPotImACGreenFunction | 电流的虚部 |
| PoGeoGreenFunction | 几何变化的格林函数实部 |
| CurGeoGreenFunction | 几何变化的格林函数 |
| GradPoECReACGreenFunction | 电压噪声的、、、的实部/虚部 |
| GradPoECImACGreenFunction | 电压噪声的、、、的虚部 |
| GradPoHCReACGreenFunction | 热噪声的、、、的实部/虚部 |
| GradPoHCImACGreenFunction | 热噪声的、、、的虚部 |
| GradPoETReACGreenFunction | 电压噪声的和 |
| GradPoETImACGreenFunction | 电压噪声的和的虚部 |
| GradPoHTReACGreenFunction | 热噪声的和 |
| GradPoHTImACGreenFunction | 热噪声的和的虚部 |
| Grad2PoECACGreenFunction | 电压噪声的和 |
| Grad2PoHCACGreenFunction | 热噪声的和 |
| AllLNS | 所有使用的LNS |
| AllLNVXVSD | 所有使用的LNVSD |
| GreenFunctions | 格林函数及其梯度 |
参考文献
[1] F. Bonani et al., "An Efficient Approach to Noise Analysis Through Multidimensional Physics-Based Models," IEEE Transactions on Electron Devices, vol. 45, no. 1, pp. 261–269, 1998.
[2] J.-P. Nougier, "Fluctuations and Noise of Hot Carriers in Semiconductor Materials and Devices," IEEE Transactions on Electron Devices, vol. 41, no. 11, pp. 2034–2049, 1994.
[3] F. Bonani and G. Ghione, "Generation–recombination noise modelling in semiconductor devices through population or approximate equivalent current density fluctuations," Solid-State Electronics, vol. 43, no 2, pp. 285–295, 1999.