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23. 噪声、涨落和敏感度(Noise, Fluctuations, and Sensitivity)

本章讨论Sentaurus Device中的噪声分析、涨落分析和敏感度分析。

本章解释了Sentaurus Device的以下功能:建模噪声、掺杂、陷阱浓度、功函数、带隙、几何形状、介电常数、金属电导率的统计涨落,以及模型参数、掺杂和几何形状变化的敏感度。所有这些主题都涉及器件特性对小规模、器件内部变化的响应。对于噪声,这些变化在单个器件内随时间随机发生;对于统计涨落,这些变化是随机的器件间变化;而对于敏感度,这些变化由用户提供。尽管变化的性质不同,但它们都可以通过称为阻抗场方法的相同线性化方法来处理,因此Sentaurus Device将它们全部放在一个通用框架中处理。

[阻抗场方法的使用](第817页)解释了如何执行噪声、涨落和敏感度分析。[噪声源](第823页)讨论了Sentaurus Device提供的噪声和随机涨落模型。[统计阻抗场方法](第832页)描述了基于统计采样的随机掺杂涨落、陷阱浓度涨落、几何涨落和功函数涨落的建模方法。[确定性变化](第844页)讨论了用户提供的掺杂、几何和模型参数变化。[阻抗场方法](第849页)讨论了该方法的背景[1],[噪声输出数据](第850页)总结了可用于可视化的数据。

使用阻抗场方法

Sentaurus Device通过阻抗场方法以及小信号分析的扩展(见[小信号交流分析](第159页))来处理噪声分析、涨落分析和敏感度分析。

注意: 阻抗场方法不支持HeteroInterface选项(见[突变和缓变异质结](第60页))、Thermionic选项(见[热电子发射电流](第908页))或偶极层([偶极层](第250页))。

对于噪声和随机涨落,Sentaurus Device计算所选电路节点电压的方差和相关系数,假设这些节点的净电流是固定的。由于计算在频域中进行,因此计算的量称为噪声电压谱密度。Sentaurus Device还计算节点的电流方差和相关系数,假设电压是固定的;这些量是噪声电流谱密度。

对于统计阻抗场方法(sIFM)和确定性变化,Sentaurus Device计算节点电压的响应,假设电流是固定的,并计算节点电流的响应,假设电压是固定的。

指定变化

要使用噪声和随机涨落分析,在Sentaurus Device命令文件的Physics部分中,将微观偏差来源(称为局部噪声源,LNS)的物理模型指定为关键字Noise的选项:

bash
Physics {
    ...
    Noise <string> ( <Noisemodels> )
}

其中<Noisemodels>是指定任意数量噪声模型的列表见表326(第1753页)。字符串后给出的名称是可选的。使用具有不同名称的Noise规范允许你在单次仿真运行中研究不同的噪声规范。

对于sIFM,在全局Math部分和特定于器件的全局Physics部分中指定RandomizedVariation

bash
Math {
    RandomizedVariation <string> ( <specification> )
    ...
}
Device <string> {
    Physics {
        RandomizedVariation <string> ( <specification> )
    }
}

其中<specification>指定随机化的细节(见[统计阻抗场方法](第832页))。

对于确定性变化,在全局Physics部分中将变化指定为DeterministicVariation的选项:

bash
Physics {
    DeterministicVariation( <variations> )
    ...
}

其中<variations>是指定任意数量确定性变化的列表(见[确定性变化](第844页)和表296(第1732页))。

指定求解器

在任何情况下,使用ACCoupled语句的ObservationNode选项来指定需要噪声谱密度或偏差的器件节点。例如:

bash
ACCoupled (
    StartFrequency = 1.e8 EndFrequency = 1.e11
    NumberOfPoints = 7 decade
    Node (n_source n_drain n_gate)
    Exclude (v_drain v_gate)
    ObservationNode (n_drain n_gate)
    ACExtract = "mos"
    NoisePlot = "mos"
){
    poisson electron hole contact circuit
}

关键字ObservationNode允许进行噪声和涨落分析(在本例中,针对节点n_drain和n_gate)。NoisePlot指定器件特定绘图的文件名前缀(见[噪声输出数据](第850页))。有关ACCoupled语句的更多信息,见[小信号交流分析](第159页)。

注意: 观察节点必须是Node(...)中指定的节点的子集。

零频率分析

可以在频率零处执行变化分析。如果在ACCoupled语句中指定单个频率零:

bash
StartFrequency = 0. EndFrequency = 0. NumberOfPoints = 1

则激活此模式,与正频率分析相比,增强了分析和内存消耗的速度。

但是,你必须注意以下几点:

交流节点的电容无法提取,在输出文件中被设为零。

对于通用结构,只有电流格林函数(及其响应)是明确定义和计算的。电压格林函数及其相关响应无法计算。因此,默认情况下停用其计算,相应的输出数据被设为零。但是,如果结构的所有部分都是导电耦合的(而不仅仅是电容耦合),那么电压响应是明确定义的,可以通过在ACCoupled语句中指定VoltageGreenFunctions作为参数来显式激活其计算。

结果输出

分析的结果是噪声电压谱密度、噪声电流谱密度以及电压和电流偏差。它们出现在ACExtract文件中(见表144),在sIFM的情况下,还出现在单独的.csv文件中。单位是V²·s(电压谱密度)和A²·s(电流噪声谱密度)。如果在Noise之后指定的字符串不为空,则它会被加上前缀到ACExtract文件中谱密度的名称。

表144:写入ACExtract文件的噪声和涨落数据

名称描述
S_V自相关噪声电压谱密度(NVSD)
S_I自相关噪声电流谱密度(NISD)
S_V_ee电子NVSD
S_V_hh空穴NVSD
S_V_eeDiff由于扩散LNS的电子NVSD
S_V_hhDiff由于扩散LNS的空穴NVSD
S_V_eeMonoGR由于单极性GR LNS的电子NVSD
S_V_hhMonoGR由于单极性GR LNS的空穴NVSD
S_V_eeFlickerGR由于闪烁GR LNS的电子NVSD
S_V_hhFlickerGR由于闪烁GR LNS的空穴NVSD
S_V_BandEdge由于带隙涨落的NVSD和NISD

噪声源

本节讨论可用于噪声和随机涨落建模的物理模型。

扩散噪声

扩散噪声是由载流子随机扩散运动引起的。电子和空穴的扩散噪声谱密度由下式给出:

其中是玻尔兹曼常数,是温度,是基本电荷,是流过节点的电流,是电流格林函数。

要激活扩散噪声,请在Physics部分中指定Noise

bash
Physics {
    Noise ( Diffusion )
}

产生-复合(GR)噪声

产生-复合噪声是由载流子的随机产生和复合过程引起的。GR噪声谱密度为:

其中是载流子寿命,是产生率。

要激活GR噪声,请在Physics部分中指定Noise

bash
Physics {
    Noise ( SRH )
}

闪烁噪声

闪烁噪声(1/f噪声)通常与陷阱捕获和释放载流子的随机过程有关。闪烁噪声谱密度为:

其中是取决于器件工艺的常数,通常约为1。

要激活闪烁噪声,请在Physics部分中指定Noise

bash
Physics {
    Noise ( Flicker )
}

热噪声

热噪声(约翰逊-奈奎斯特噪声)是由导体中载流子的热运动引起的。热噪声谱密度为:

其中是电阻。

要激活热噪声,请在Physics部分中指定Noise

bash
Physics {
    Noise ( Thermal )
}

统计阻抗场方法

统计阻抗场方法(sIFM)用于建模随机掺杂涨落、陷阱浓度涨落、几何涨落和功函数涨落。sIFM基于统计采样,其中每个样本代表具有不同随机变化配置的器件。

sIFM配置

要使用sIFM,在Math部分和Physics部分中指定RandomizedVariation

bash
Math {
    RandomizedVariation "doping" (
        Type = Dopant
        NumberOfSamples = 100
    )
}
Physics {
    RandomizedVariation "doping" (
        Type = Dopant
        DopingFluctuation = <float>
    )
}

sIFM参数

Type:随机化类型(DopantTrapGeometryWorkfunction

NumberOfSamples:要生成的样本数量

DopingFluctuation:掺杂涨落的幅度

sIFM分析

sIFM分析生成一组样本,每个样本代表具有不同随机变化配置的器件。然后对所有样本的响应进行平均,以获得对随机变化的平均响应。

确定性变化

确定性变化用于建模用户指定的变化,而不是随机变化。

指定确定性变化

要使用确定性变化,在Physics部分中指定DeterministicVariation

bash
Physics {
    DeterministicVariation (
        DopingVariation = (region1, 0.1, 0.2)
        GeometryVariation = (region2, 0.05)
    )
}

确定性变化参数

DopingVariation:掺杂变化(区域、变化幅度)

GeometryVariation:几何变化(区域、变化幅度)

ModelParameterVariation:模型参数变化(参数名、变化幅度)

阻抗场方法

阻抗场方法(IFM)是一种用于分析器件中噪声和涨落的强大技术。该方法基于格林函数,格林函数描述了器件中某一点的扰动如何影响另一点的响应。

IFM理论

对于频率处的噪声,电流响应由下式给出:

其中是格林函数,是局部扰动。

噪声谱密度为:

其中是噪声源相关函数。

IFM应用

IFM可用于计算:

器件终端的噪声电压谱密度

器件终端的噪声电流谱密度

噪声电流谱密度

随机涨落的方差和标准偏差

噪声输出数据

表145和表146总结了可用于可视化的噪声数据。

表145:器件噪声数据

关键字描述
S_V自相关噪声电压谱密度
S_I自相关噪声电流谱密度
S_V_ee电子噪声电压谱密度
S_V_hh空穴噪声电压谱密度
S_V_Diff扩散噪声电压谱密度
S_V_GR产生-复合噪声电压谱密度
S_V_Flicker闪烁噪声电压谱密度

表146:器件噪声数据(续)

关键字描述
PoHTReACGreenFunction的实部/虚部
PoHTImACGreenFunction的虚部
CurHTReACGreenFunction电流的实部/虚部
CurHTImACGreenFunction电流的虚部
PoLTReACGreenFunction的实部/虚部
PoLTImACGreenFunction的虚部
CurLTReACGreenFunction电流的实部/虚部
CurLTImACGreenFunction电流的虚部
PoPotReACGreenFunction的实部/虚部
PoPotImACGreenFunction的虚部
CurPotReACGreenFunction电流的实部/虚部
CurPotImACGreenFunction电流的虚部
PoGeoGreenFunction几何变化的格林函数实部
CurGeoGreenFunction几何变化的格林函数
GradPoECReACGreenFunction电压噪声的的实部/虚部
GradPoECImACGreenFunction电压噪声的的虚部
GradPoHCReACGreenFunction热噪声的的实部/虚部
GradPoHCImACGreenFunction热噪声的的虚部
GradPoETReACGreenFunction电压噪声的
GradPoETImACGreenFunction电压噪声的的虚部
GradPoHTReACGreenFunction热噪声的
GradPoHTImACGreenFunction热噪声的的虚部
Grad2PoECACGreenFunction电压噪声的
Grad2PoHCACGreenFunction热噪声的
AllLNS所有使用的LNS
AllLNVXVSD所有使用的LNVSD
GreenFunctions格林函数及其梯度

参考文献

[1] F. Bonani et al., "An Efficient Approach to Noise Analysis Through Multidimensional Physics-Based Models," IEEE Transactions on Electron Devices, vol. 45, no. 1, pp. 261–269, 1998.

[2] J.-P. Nougier, "Fluctuations and Noise of Hot Carriers in Semiconductor Materials and Devices," IEEE Transactions on Electron Devices, vol. 41, no. 11, pp. 2034–2049, 1994.

[3] F. Bonani and G. Ghione, "Generation–recombination noise modelling in semiconductor devices through population or approximate equivalent current density fluctuations," Solid-State Electronics, vol. 43, no 2, pp. 285–295, 1999.

基于 Sentaurus TCAD 官方文档构建

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